1、本文主要論述基板員偏壓與銅基體磁控濺射離子鍍鋁膜的關系。

2、本發明是一種應用于多弧離子鍍、滲設備中的柱狀陰極電弧源。包括管狀陰極靶材、管內安裝的行于軸線的數根條形磁鋼、磁鋼整體做旋轉運動。

3、本論文采用電弧離子鍍技術，純氬氣氣氛下，在AZ91鎂合金上制備了類金剛石薄膜及鈦摻雜類金剛石薄膜。

4、本文利用朗繆爾雙探針對電弧離子鍍等離子體進行了診斷。

5、也可以單獨作為磁控濺射或多弧離子鍍膜機使用。

6、利用脈沖多弧離子鍍技術在硅基底上沉積類金剛石薄膜.

7、磁控濺射離子鍍鋁膜不是簡單的單質外接鋁膜，而是銅和鋁組成的合金膜。

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8、磁控濺射離子鍍鋁膜不是簡單的單質外接鋁膜，而是鋁和鐵組成的合金膜。

9、提出了一種關于多弧離子鍍合金涂層成分離析效應的物理模型。

10、本實用新型是一種柱狀靶等離子鍍膜機。

11、離子鍍不銹鋼表殼與表圈比賽的樂隊給它一個時髦的外觀。

12、多弧離子鍍技術是離子鍍技術的一種改進方法，它是把弧光放電作為金屬蒸發源的表面涂層技術。

13、黑色離子鍍不銹鋼圓形表殼和標識，日期窗口和黑色表盤數字指標。

14、采用化學鍍銅和多弧離子鍍鋁兩種方法在玻璃纖維表面制備導電膜。

15、采用多弧離子鍍技術沉積氮化鈦鋁超硬反應膜。

16、重點分析了系統效率，等離子體傳輸影響因素和真空陰極電弧離子鍍技術在薄膜研究和制造中的應用。

17、本文將主要敘述等離子濺射鍍膜的原理與方法,并且簡單介紹磁控管濺射儀和鋨等離子鍍膜儀等.

18、其次是黑色鍍層，探討了目前較受歡迎的電鍍黑色錫鎳合金及離子鍍碳化鈦。